説明
用途
- シリコン基板上への酸化シリコン形成
スペック・付属品等
- 酸化方式:
- ドライ(酸素)，ウエット(水蒸気)
- 基板サイズ:4 インチ
- 4 インチ以下でご利用の場合には，別途，
- 石英の治具(ボート)をご準備ください。
- 炉内温度:最高1100℃
更新日: 2021年11月11日
酸化・拡散炉
料金
使用料金：¥2,500円（1時間あたり）
| 研究員による支援 3,900円/時 操作法説明 3,900円/時 時間外の機器利用料は2割増となります。 |
施設機器の利用制限
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